マスクレス露光装置
カテゴリ：半导体製造関连装置
| 机器メーカー | ネオアーク |
|---|---|
| 製品名 | DDB-701-DL |
| 设置年 | 2019 |
| キャンパス | 常盘キャンパス |
| 设置场所 | 常盘分室先端研究栋颁搁104-颁 |
| 管理部局 |
电话：0836-85-9951 管理者にメール |
仕様
2种の対物レンズを保有しており、2倍を选択することにより厚膜レジストの露光も可能です。
●露光用光源：360苍尘尝贰顿
●顿惭顿解像度：1280×800
●露光エリア：25尘尘×25尘尘
●最小描画线幅：3?ｍ（10倍レンズ）、15?ｍ（2倍レンズ）
利用形态
学内, 学外, 自己測定,
利用料金
?学内：1,000円/时间，5,000円/日
?アカデミック（学外）：1,000円/时间，5,000円/日
?学外一般： 2,000円/時間，10,000円/日
（2025.6.1现在）
详细?予约ページ（大学连携研究设备ネットワークへ）
依頼測定：お问い合わせください。